|
|
ÀΰøÁö´É(AI) ½Ã½ºÅÛÀÇ º¸¾È À§Çù ¹× ¿À·ù ÇØ°á¿¡ ´ëÇÑ ¿¬±¸
|
 |
Ãá°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
ÀΰøÁö´É(AI) ½Ã½ºÅÛÀÇ °³ÀÎÁ¤º¸ º¸È£ À§Çè°ü¸®¿¡ ´ëÇÑ ¿¬±¸
|
 |
Ãá°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
AI ±â¹Ý ÄÜÅÙÃ÷ ÀνÄÇü ¸ð´ÏÅÍ º¸¾È ½Ã½ºÅÛÀ» ÅëÇÑ Ä«¸Þ¶ó ÃÔ¿µ ±â¹ÝÀÇ °³ÀÎÁ¤º¸ À¯Ãâ ¹æÁö ¿¬±¸
|
 |
Ãá°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
ºí·ÏüÀÎ ±â¹Ý DID¸¦ Ȱ¿ëÇÑ AI ½Ã½ºÅÛ °³ÀÎÁ¤º¸ º¸È£ ÇÁ·¹ÀÓ¿öÅ© ¿¬±¸
|
 |
Ãá°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
AI °ø±Þ¸Á º¸¾ÈÀ» À§ÇÑ CMMC 2.0°ú NIST AI RMF ÅëÁ¦Ç׸ñ ¸ÅÇÎ ¹× Á¤ÇÕ¼º ºÐ¼®
|
 |
Ãá°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
AI¸¦ Ȱ¿ëÇÑ Á¤º¸º¸¾È ÀÎÁõ Evidence ÀÚµ¿ »ý¼º ¹× Gap Analysis Ç÷§Æû ¼³°è
|
 |
Ãá°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
±¹Á¦±â±¸¿¡¼ÀÇ ÇØ¾ç Á¶¼± ¹× ¼±¹Ú ºÐ¾ß »çÀ̹ö º¸¾È Àü¹®°¡ ¾ç¼º ¹æ¾È ¿¬±¸
|
 |
Ãß°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
»ê¾÷º° µ¥ÀÌÅÍ ¼öÁý À¯Çü¿¡ µû¸¥ µ¥ÀÌÅÍ Ç°Áú ÀÎÁõÀÇ Àû¿ë ¹æ¹ý·Ð ¿¬±¸
|
 |
Ãß°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
ISO Ç¥ÁØ¿¡ µû¸¥ Á¤º¸º¸¾È ¿øÄ¢ÀÇ AI °ü¸® È®Àå ¿¬±¸ - ISO/IEC 42001°ú ISO/IEC 270
|
 |
Ãß°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
¹Ì±¹ ±¹¹æ»çÀ̹ö¼º¼÷µµ¸ðµ¨ÀÎÁõ(CMMC) ÀÌÇØ¿Í ¹ßÀü¹æ¾È ¿¬±¸
|
 |
Ãß°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|
|
|
µ¶ÀÏ ÀÚµ¿Â÷º¸¾ÈÀÎÁõ(TISAX)ÀÇ ÀÌÇØ¿Í ¹ßÀü¹æ¾È ¿¬±¸
|
 |
Ãß°èÇмú´ëȸ ³í¹®
|
|
|